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首先，涂料中的成膜物即樹(shù)脂和顏料等大多數(shù)是由高分子有機(jī)化合物組成，多成為導(dǎo)電的電介質(zhì)，溶劑形涂料除成膜物外還有、助溶劑、固化劑、靜電稀釋劑、及其他各類(lèi)添加劑等物質(zhì)。

這類(lèi)溶劑性物質(zhì)除了苯、二、溶劑等，大多是極性物質(zhì)，電阻率較低，有一定的導(dǎo)電能力，它們能提高涂料的帶電性能。電介質(zhì)的分子結(jié)構(gòu)可分為極性分子和非極性分子二種。

極性分子組成的電介質(zhì)在受外加電場(chǎng)作用時(shí)，顯示出電性；非極性分子組成的電介質(zhì)在外加電場(chǎng)作用下，顯示電極性，從而對(duì)外來(lái)的導(dǎo)性電荷產(chǎn)生親合力，使電介質(zhì)在外加電場(chǎng)中其外表面能局部帶電。斯普瑞粉末噴塑設(shè)備的涂料經(jīng)噴噴嘴霧化后噴出，被霧化的涂料微粒通過(guò)口的極針或噴盤(pán)、噴杯的邊緣時(shí)因接觸而帶電，當(dāng)經(jīng)過(guò)電暈放電所產(chǎn)生的氣體電離區(qū)時(shí)，將再一次增加其表面電荷密度。

高真空方法 ：

真空鍍vacuum plating 真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類(lèi)型，它們都是采用在真空條件下，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過(guò)這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類(lèi)型較少，一般用來(lái)作較產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。

(1)真空蒸發(fā)鍍 在高真空容器中，將金屬材料加熱蒸發(fā)，并鍍著在制件表面上，形成與基體牢固結(jié)合的金屬或非金屬覆蓋層的過(guò)程稱(chēng)為真空蒸發(fā)鍍，簡(jiǎn)稱(chēng)真空鍍或蒸發(fā)鍍，如真空鍍鋁，真空鍍鍍金等。

(2)濺射鍍 在高真空容器中，在低氣壓下使離子在強(qiáng)電場(chǎng)作用下轟擊膜料，使其表面原子逸出并沉積在制件表面上形成薄膜的過(guò)程稱(chēng)為濺射鍍，如濺射硅、濺射銀等。

(3)離子鍍 在高真空容器中，在低氣壓下利用蒸發(fā)源蒸出的粒子，經(jīng)過(guò)輝光放電區(qū)部分電離，通過(guò)擴(kuò)散和電場(chǎng)作用，沉積于制件表面形成與基本牢固結(jié)合鍍覆層的過(guò)程稱(chēng)為離子鍍，如鍍氮化鈦等。

(4)化學(xué)氣相鍍 在低壓下，利用氣態(tài)物質(zhì)在固態(tài)表面上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成與基體結(jié)合良好的固體沉積層的過(guò)程稱(chēng)為化學(xué)氣相鍍（有時(shí)也有常壓下進(jìn)行）。如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。

(5)離子注入 在高壓電下將不同離子注入工件表面以改變表面性質(zhì)的過(guò)程稱(chēng)為離子注入，如注硼等。

其它物理方法 主要利用機(jī)械的或化學(xué)的方法將有關(guān)金屬鍍覆于制件表面之上。屬于這一類(lèi)有：

(1) 沖擊鍍 利用機(jī)械沖擊作用將有關(guān)金屬鍍覆于制件表面并形成與基體牢固　結(jié)合的鍍覆層過(guò)程稱(chēng)為涂裝，如涂漆等。

(2) 涂裝　利用噴射、涂飾等方法，將有機(jī)涂料覆于制件表面并形成與基本牢固結(jié)合的涂覆層過(guò)程稱(chēng)為涂裝，如涂漆等。

(3)激光表面加工，利用激光對(duì)制件表面進(jìn)行輻照，使制件表面結(jié)構(gòu)改變的過(guò)程稱(chēng)為激光表面加工，如激光淬火等。